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Polvere di rame nana rameica di Cas 1317-38-0 nero per il circuito stampato
Dettagli:
Termini di pagamento e spedizione:
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Descrizione di prodotto dettagliata
| Purezza: | min 98,5% | Densità: | 6.3-6.49g/cm3 |
|---|---|---|---|
| L'altro Cas nessun: | 1344-70-3 | EINECS nessun: | 215-269-1 |
| Punto di fusione: | 1326℃ | CAS No.: | 185461-92-1 |
| Evidenziare: | tungstate del cesio,nanoparticelle rameiche dell'ossido |
||
Nessuna 1317-38-0 1 -100 nanometro polvere nana dell'ossido rameico nero di Cas si è specializzata in circuito stampato
Livella l'ossido di rame attivo placcante, anche conosciuto come l'ossido di rame placcante livella, placcando la polvere dell'ossido di rame, placcando l'ossido di rame attivo di nanometro, l'ossido di rame placcante del grado si compone della meno aggregazione attiva e composizione atomiche o molecolari, particelle molecolari inferiore a 1 um, parecchie volte più grande dell'area che l'ossido di rame ordinario, il contenuto elevato, impurità basse, quale la polvere è benissimo e caratteristiche uniformi.
Il prodotto ha il più alta attività e tasso più veloce della dissoluzione.
La prestazione elettrica liquida del prodotto è stabile,
Il prodotto ha scarso effetto sull'additivo di placcatura e l'effetto placcante è stabile.
Certificato di analisi
| OGGETTO | SPECIFICHE | RISULTATI DEI TEST | ||||
| CuO (%, min) | 99,5 | 99,5 | ||||
| Impurità (mg/kg, massimi) | ||||||
| Zn | ≤30 | 3,25 | ||||
| Mn | ≤15 | 2,57 | ||||
| Ni | ≤30 | 8,31 | ||||
| L'altro indice | ||||||
| Dimensione delle particelle (D50, μm) | 0.5-1.0 | |||||
| OGGETTO | SPECIFICHE | RISULTATI DEI TEST |
| CuO (%, min) | 99,5 | |
| Cu (%, min) | 79,85 | |
| Impurità (%, massimi) | ||
| Si | 0,01 | |
| Al | <0.01 | |
| Fe | 0,01 | |
| Mg | <0.01 | |
| Ca | <0.01 | |
| K | <0.01 | |
| P | <0.01 | |
| Mn | <0.01 | |
| Ti | <0.01 | |
| Cr | <0.01 | |
| Zn | <0.01 | |
Dettagli di contatto
Changsha Easchem Co., Limited
Persona di contatto: andrew.liao
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